某半导开发机构因晶圆进行维护清洁多种工序存在含氨生活污水，的水量200吨/天。生活污清水中除化学需氧量外还内含氟化物和氢化物发生器高价属，外理关卡大。内地减排规范请求化学需氧量＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 生活污水因素及起源 晶圆除垢污水（关键源于）：含氧化还原电位200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工艺技术废渣：含少量铜、镍等巨资属，pH值冲击大 CMP研磨机废水处理：含硅粒状及氧化还原电位 治理 的工艺程序流程 选用"生物学沉淀自己+膜分离出来+折点氯化"结构方法： 预整理 ：加药系统CaCl2除氟，控制pH在7.5-8. 反渗透装置机系统 ：清理0.01μm综上所述小粒物 反加入浓缩咖啡 ：将氧化还原电位精炼至1000mg/L这些 折点氯化 ：精确性设定氯污泥脱水量，将挥发酚有效的转化为惰性气体 铝离子交易 ：切实保障高价属达到 然后体验 高锰酸盐指数稳定可靠＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属分子量降到测试限 水中水回用率达75% 活性污泥出现量以减少40%