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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制作厂地属苏北沿海地区,包括制作89英寸半导体设备晶圆,平均废液废气排股票放量约800吨。由制作过程中中食用大量的氢氧化钠来晶圆蚀刻,诱发废液中氟化物含量达到了200-300mg/L,远超祖国废气进行排放标(10mg/L下述)。 废水处理的成分及由来 污水主要的来自五湖四海五个各个环节: 晶圆蚀刻加工过程 :含高氨水浓度氟化物(HF)、硝酸银及大量巨资属 化学上机械制造磨光(CMP)污废水 :含奈米级硅颗料、无机络合剂 产品难以清理废渣 :含异丙醇、氟化物等生物碳物 治疗的工艺方案 选用"检查是否析出+水泥混凝土析出+深度1过虑"三阶段正确处理系统化: 七级处里 :加药氯化钙和氢防氧化钙,建立氟化钙析出,氟化物我们要除率达85% 中级工作 :添加图片PAC(配位聚氯化铝)和PAM(聚丙酰胺),我们要除固体态感染物 3级治理 :顺利通过多物料滤水器和活性氧炭粘附,溢水氟化物有机废气浓度平稳在8mg/L接下来 根本机器设备是指:pH自然设定控制系统、斜管沉定池、板框板框压滤机(活性污泥脱水怎么办)。 从而特效 创业项目正常运作3年监测站参数展示: 氟化物均值浓硫酸浓度:7.2mg/L(高出各国规范) COD出掉率:92% 污泥干化水分含量率:≤65% 年回报氟化钙副货品约150吨,建立环境秸秆综合使用使用

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