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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

产品时代背景 该半导体技术制造技术科技化工园区靠近苏北省份,总进行投资多于200万元,首要生育12英尺晶圆和最先进芯片封装厂品。科技化工园区日摆放废出水量约5000吨,是指好几种工艺设备废渣正确治理 ,正确治理 麻烦大。好项目特殊要求废渣正确治理 正确治理 后达标《电子厂化工水污染源物摆放要求》(GB 39731-2020)特意摆放规定值,方面回收利用率不不超过60%。 废水处理工艺化学物质及来自 含氟废水处理工艺:主要的出自于晶圆蚀刻、冲洗多种工序,氟化合物渗透压将高达200-500mg/L,pH值动荡大 巧妙废气:光刻、成像、去胶等流程制造,COD质量浓度300-800mg/L,带有异丙醇、异丙醇等巧妙液体 含铜废渣:检查是否镀、检查是否厂家镜面抛光(CMP)程序所产生,铜阴阳离子氧化还原电位50-150mg/L 强酸强碱废水处理工艺:环保设备擦洗、有机废气干洗等部分形成,pH值在2-12互相波动性 磨研生产废水:CMP工艺程序发生,有奈米级二防氧化硅小粒 解决生产流程图图流程图 运用"的分类收集整理+分质工作+广度静化"的組合工艺技术: 含氟废水处置处置线 : 多级化学式沉定:先添加氯化钙调整pH至6-7,多加入PAC和PAM斜管结晶池沉定 催化活性腐蚀铝粘附:为了保证氟阴离子氧浓度降下来5mg/L一些 飞灰经板框压滤后委托授权专业技术妥善处理 生物碳化工废水除理线 : 微钛电极法预整理:铁碳微钛电极法挥发大原子有机化学物 UASB活性污泥的管式反应器:HRT=24h,COD出掉率>60% MBR膜怪物表现器:选取PVDF中空夹胶玻璃纤维素膜,通量15LMH 含铜生产废水补救线 : 化学反应悠长岁月中:添加NaOH调整pH至9-10,成型Cu(OH)2悠长岁月中 化合物置换:二级聚酯树脂置换有效确保铜化合物<0.3mg/L 电解抛光抛光的回收分类处理利用:部件废污水经电解抛光抛光的回收分类处理利用轻金属铜 综合管理整理系统软件 : 调节器池:均衡化水硬度出水量,设暴气搅匀 混泥土凝固:加药复合型斜板沉淀池剂剔除固体东西 活性氧促使防氧化:挥发难挥发有机酸物 反融入系统:脱盐率>98%,产水回收于产量线 活性污泥清理系统的 : 污水提液池:液体氧浓度从1%加强至3% 离心式脱水情况:申请加入PAM食补,泥饼含水分率<75% 底温干化:区域废水干化至水分含量率30%以内 以后的效果 建设项目建设完工正常运作后,每项指标图平稳做到规定:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜铁离子<0.3mg/L、pH 6-9。回收水生活饮用自来水做到GB/T 19923-2005重工业用自来水规定,回收率65%,一年业绩鲜美水使用约140万吨。废水生产量抑制40%,的危险废品治理价格减小35%。平台会智能化情况高,在线平台监测网数据资料与环保健康行政部门实时视频登录。

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