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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

业务背静 该半导加工的企业属于西北国家,最主要的生產结合电源电路集成ic,日排污含氟焦化废污水约800吨。随着内地环境标准规范提供,原来的除理安全设施是没办法足够氟化物排污浓硫酸浓度超过5mg/L的新需求,的企业注资11000万元新开专业含氟焦化废污水除理系统的。 废水处理工艺含量及來源 电镀废水核心种类于电子器件营造的过程 中的刻蚀道环节和洁净道环节,核心废弃物物涵盖: 氟铝离子氧浓度:300-800mg/L pH值:2- 所含小量硅酸盐、磷酸二氢钠 少量天价属如铜、镍等 办理新工艺步奏 采取"预清理+耐腐蚀沉定+深度的清理"三人组合工序: 调控池:匀衡水污染发电量,使用pH一直在线数据监测 第一不良反应池:加药系统氢防氧化钙,把握pH至7-8,变成氟化钙凝固 一层积淀池:积淀离心分离氟化钙生活污水 三级响应池:加药氯化钙和聚合反应氯化铝,进这一步快速清理残留氟阴阳离子 一级积累池:分次积累分开 砂滤平台:清理漂浮物 生物炭离心分离:消除化合物物和微量分析天价属 飞灰加工体系:板框压滤脱水处理,飞灰水分含量率高于60%一下 进而郊果 平台运转稳定的后,溢水水质量: 氟阳离子盐浓度:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 天价属水平均远低于检测出限 完整标准《微电子鑫霖环保水生态破坏物排污口标准规范》(GB39731-2020)标准,年年增多氟化物排污口约180吨。

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